2分钟压印周期，良率将冲95%！魔飞光电如何破解光波导量产困局
电子发烧友网报道（文/莫婷婷）9月18日，Meta发布了采用LCoS+光波导方案的AR彩色智能眼镜 Meta Ray-Ban Display。作为AI智能眼镜行业的风向标，Meta新一代AI眼镜的发布将推动光波导技术迈向消费级应用。然而，光波导量产仍受限于产能
纳米压印
上海交大姜学松团队ACS Nano：纳米压印技术实现动态微纳结构光学调控新突破
近年来，基于图案化表面的光学器件（如衍射光栅、光波导和分束器）在近眼显示和光学系统中发挥着关键作用。这些器件通过对光线的精确调控，推动了虚拟现实、增强现实、智能显示等领域的快速发展。然而，尽管现代纳米加工技术已能够制备高度有序的功能性纳米结构，如何实现这些结构
使用纳米压印超构透镜阵列的集成成像近眼3D显示
集成成像(II)显示作为关键的真3D显示技术近年获研究关注显著提升，消色差超透镜阵列已实现基于宽带超透镜阵列的集成成像(meta-II)；然过往微尺度超透镜阵列与商用微显示器不兼容，且元素图像阵列(EIA)渲染速率滞缓，此器件与算法双重瓶颈阻碍meta-II应
中国芯突破！纳米压印光刻机成功交付，国产芯片超车直击西方要害
“即便公开图纸，中国也造不出EUV光刻机。”三年前ASML公司CEO这句话曾深深刺痛了中国技术人员的心。如今，中国以自主创新的纳米压印光刻机实现了有力回应。这款型号为PL-SR的纳米压印光刻设备，支持线宽
打破西方垄断？我国首台纳米压印光刻机交付，对标ASML显实力
说到芯片，无论智能手机、汽车，还是数据中心、云家居，这颗微小“硅心脏”已经渗透你我日常。但偏偏，这核心设备的关键——光刻机，长期被荷兰ASML、日本佳能等国际巨头死死把持。
我国首台纳米压印光刻机交付：对标荷兰巨头ASML，直击西方要害
说起芯片，现在谁家没几样离不开它的玩意，从手机到汽车，从数据中心到智能家居，全都得靠这小小一片硅片撑场子。可偏偏制造芯片的核心设备——光刻机，长久以来被荷兰的ASML和日本的佳能这些巨头牢牢把控着。
光刻机概念，正宗的8家公司
今日，璞璘科技宣布其自主研发的PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备于2025年8月正式交付国内客户，标志着中国首台10nm级半导体级纳米压印光刻系统实现量产突破。
我国首台纳米压印光刻机交付：对标荷兰巨头ASML，直击西方的要害
2025年8月1日，杭州一家叫璞璘科技的公司交出了一台黑科技设备，名字叫PL-SR纳米压印光刻机。这台机器能让中国的芯片制造精度达到10纳米以下，直接对标荷兰ASML的高端光刻机。芯片厂用它生产存储芯片时，成本能比进口设备低四成，性能却差不多。普通人在用手机电
中国“盖章术”突破10纳米！用“印章”造出首台纳米压印光刻机！
2025年8月1日，中国首台半导体级纳米压印光刻机交付，璞璘科技PL-SR设备正式落地。这把纳米印章线宽突破10nm，残余层误差小于2nm，关键指标碾压日本佳能旗舰机。日本佳能垄断的赛道被中国团队用5年硬核突围，杭州璞璘科技这台PLSR设备直接让模板压出10纳
AI芯天下丨热点丨国内首台10nmn纳米压印光刻机系统交付，光刻领域迎国产化突破
传统光刻通过光学投影将电路图案转移到涂有光刻胶的晶圆上，而纳米压印光刻（NIL）基于机械转移原理，像盖章一样使用模板通过机械力直接将图案压印到涂有压印胶的晶圆表面，无需光学曝光过程。
巴尔丹齐：很幸运能和迪巴拉并肩作战 罗马新赛季要重返欧冠赛场
罗马球员托马索-巴尔丹齐在英格兰集训期间接受了迪马奇奥的采访，谈到了自己在球队的感受、对新赛季的展望以及对国家队梦想的看法。这位2003年出生的年轻球员明确表示，他在罗马过得非常开心。
突破垄断！中国首台纳米压印光刻机交付，芯片制造换道超车新路径
说到芯片制造，大家第一个想到的肯定是那台价值2亿美元的EUV光刻机。荷兰ASML公司垄断了全球EUV市场，而且对中国实施严格禁运。但璞璘科技选择了一条完全不同的路——纳米压印技术（NIL）。如果说EUV光刻是用极紫外光"雕刻"电路图案，那么纳米压印就像是"盖印
打破佳能封锁！国产10nm纳米压印光刻机破壁
2025年8月，中国半导体制造领域悄然迎来历史性时刻——璞璘科技自主研发的PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备正式交付国内客户。
中国芯突破封锁！首台自研纳米压印光刻机交付，线宽碾压日本巨头
半导体圈炸锅了！就在上周，一家名叫璞璘科技的中国公司干了一件大事——国内首台半导体级纳米压印光刻机PL-SR正式交付客户！这台“中国印”可不简单：线宽直接干到10nm以下，把日本佳能同类设备甩在了身后。更解气的是，佳能同类设备一直对中国禁运，如今咱们自己搞出来
中国首台纳米压印光刻机交付，半导体“非EUV”或强势崛起！
事件核心：璞璘科技8月1日交付中国首台半导体级步进式纳米压印光刻（NIL）系统PL-SR，技术指标对标日本佳能，实现线宽
国产 10nm 纳米压印光刻机：能改写半导体棋局吗？
当半导体制程进入 “原子级雕刻” 时代，EUV 光刻的天价门槛与技术封锁让全球芯片产业陷入焦虑。中国首台半导体级步进式纳米压印光刻机（PL-SR）的交付，像一把突然插入僵局的钥匙 —— 它不仅打开了国产装备自主化的门缝，更让人窥见一条 “非对称突破” 的新路径
璞璘科技交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻系统
消息称，8月1日，璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。此次设备交付是公司业务拓展和市场渗透的新里程碑，标志着璞璘科技在高端半导体装备制造领域迈出坚实的一步。
璞璘科技交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻系统，纳米压印能力对标佳能！
消息称，8月1日，璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。此次设备交付是公司业务拓展和市场渗透的新里程碑，标志着璞璘科技在高端半导体装备制造领域迈出坚实的一步。
打破佳能垄断！中国首台纳米压印光刻系统交付！
2025年8月1日，由璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。